實(shí)驗(yàn)室用超純水設(shè)備主要優(yōu)勢(shì)在于自動(dòng)化方便智能、水質(zhì)穩(wěn)定、質(zhì)量、處理效果好等優(yōu)勢(shì)廣泛的應(yīng)用于行業(yè)新聞，特別是實(shí)驗(yàn)室、科研單位，以及各類輔助設(shè)備。但是設(shè)備在使用過(guò)程中，有一部分接觸超純水機(jī)的用戶可以遇到很多問(wèn)題。目前艾柯可以與大家了解一下超純水機(jī)中出現(xiàn)硅超標(biāo)的主要原因是什么？
一般來(lái)說(shuō)，打多少實(shí)驗(yàn)室純水以及進(jìn)水都來(lái)源于自來(lái)水或是地下水，而自來(lái)水很有可能會(huì)溶解出豐富的硅酸鹽，但是此類物質(zhì)的來(lái)源很雜，而為什么只檢測(cè)硅離子呢？因?yàn)楣杷猁}作為一種弱酸，在水中難以電離，使用常規(guī)簡(jiǎn)單的純化技術(shù)難以有效的得到去除。

超純水機(jī)的耗材壽命是合格的情況下硅元素都不會(huì)超標(biāo)，但是耗材在使用結(jié)束之后，通常會(huì)出現(xiàn)短暫的硅超標(biāo)情況，若是耗材壽命超過(guò)電阻率可能會(huì)急速下降，導(dǎo)致超純水的超純水中的硅離子超標(biāo)。

　　其實(shí)我們?cè)诓煌膶?shí)驗(yàn)用水中對(duì)于硅離子的要求也有所不同。就比如在進(jìn)行ppt級(jí)的痕量分析實(shí)驗(yàn)用水中，都要求將超純水中的硅含量降到很低。雖說(shuō)硅變化對(duì)于電阻率的影響甚小，一般不容易被發(fā)覺(jué)，但在離子交換樹(shù)脂與硅交換效率時(shí)易產(chǎn)生飽和，所以說(shuō)產(chǎn)水中硅也是體現(xiàn)超純水機(jī)純化柱質(zhì)量好壞的標(biāo)準(zhǔn)之一。

在現(xiàn)代純化技術(shù)中，其中RO對(duì)硅的去除率可以達(dá)到80%，而EDI技術(shù)對(duì)于硅的去除率可以達(dá)到99%，所以說(shuō)，我們?cè)谶x擇對(duì)于硅含量要求較高的實(shí)驗(yàn)室超純水機(jī)時(shí)就可以選擇帶有EDI模塊的設(shè)備。
艾柯實(shí)驗(yàn)室超純水機(jī)采用雙級(jí)反滲透超純化柱以及進(jìn)口核子級(jí)純化柱，能夠有效去除水中99.8%的雜質(zhì)，幫助實(shí)驗(yàn)室能夠更好的滿足分析檢測(cè)、科研設(shè)備的用水需求。